1,三年前华为的麒麟9000处理器,用的已经是台积电5nm工艺制程。
2,而且中芯芯片并非7纳米制程,而是n+1工艺,号称让中芯国际的12nm或者10nm制程芯片,实现与台积电7nm一样或者更好的表现。
3,而且中芯国际最高级制程的光刻机,也是从asml买的,只不过不是最好EUV所以还没有禁运
国产的上海微电子的光刻机,正在开发14纳米,良品率只有一半
↓↓↓ 共 3 条评论 ↓↓↓
昨晚有人连夜拆机Mate60 pro,石锤CPU所用芯片是麒麟9000s,编号上看,是20年第35周中国产的,这跟之前台湾产的根本不是一批。这已经证明中国在20年已经具备少量生产7nm芯片的能力,但是应该是光刻机不行,领频率和产量上不去。
按照计划,今年年底中国就要交付完全国产的28纳米光刻机,明年会交付14纳米的光刻机,你欧美爸爸那点技术优势,眼看就要荡然无存了吧。
如果14纳米光刻机,良品率只有一半,这已经是相当惊人的成就了。
等于从无到有的问题已经搞定了,剩下的就是不断迭代,不断优化了。
就你这样还来瞎说?
中芯一直有 N+1 N+2的技术规划,只不过这几年风声太紧都不提了而已。证据就是在挖矿芯片中有发现中芯的7nm技术。
中芯用的都是DUV光刻机,EUV定货给了钱,但是被ASML赖掉了。实际上高端的DUV光刻机twinscan的型号,已经禁运了
上微最接近成功的是28nm制程的,14nm不排除但是说到良品率一半,还真的很远。