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写得很好。65nm差不多就到干式的瓶颈了，下一步浸没式才算大突破，需要在浸没液和透镜材料等取得关键突破。这条路走下去可能永远在人家后面追，需要某种技术创新另辟蹊径。但65nm的指标意义也不小，它意味着成熟制程关键设备达到了自主。
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没研究过光刻机，这浸没液是利用了关在介质中传播时波长变短的原理吗？
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