中国已经独立自主搞出了DUV光刻机，EUV一定也在研发中，假以时日等EUV搞出来后，美西方的半导体真的就会有麻烦了。

来自留园官方客户端

中国的DUV制程都在28nm以下，7nm的多重曝光duv依然是asml的，别吹了。
还研究euv，但凡你对上海微电子有点了解就知道euv压根是毫无头绪都不知道怎么展开研发。